1、微硬盤驅(qū)動(dòng)器（HDD）生產(chǎn)用潔凈廠房濺射生產(chǎn)區(qū)4級(jí)：

                         組裝、測(cè)試等6級(jí)

2、高密度磁盤生產(chǎn)用潔凈廠房

3、表7、表8分別列出彩色顯像管生產(chǎn)、光導(dǎo)纖維生產(chǎn)所需的空氣潔凈度等級(jí)、溫度、濕度的實(shí)例。

       4、磁頭生產(chǎn)用潔凈廠房：磁頭裝配、濺射燒結(jié)等要求4級(jí)(0.1μm)，研磨、檢測(cè)等要求5級(jí)(0.1μm)，切割等要求6級(jí)。
       5、印制電路板生產(chǎn)用潔凈廠房：6.5級(jí)、24±2℃、65％±5％。
       6、鋰電池生產(chǎn)的干作業(yè)潔凈生產(chǎn)區(qū)：6級(jí)、23℃，露點(diǎn)(DP)-30℃；組裝、測(cè)試潔凈室(區(qū))：7級(jí)、23±2℃、≈20％。
       7、等離子顯示器(PDP)生產(chǎn)用潔凈廠房：涂屏間等：5.5級(jí)、25±2℃，50％±10％；其他生產(chǎn)間：6.5～8級(jí)、20～26℃、55％±10％。
       現(xiàn)代電子產(chǎn)品生產(chǎn)的重要特點(diǎn)之一，在許多電子產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中需使用高純水、高純氣體和高純化學(xué)品，且各類電子產(chǎn)品生產(chǎn)時(shí)，因品種不同、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝也不同，對(duì)高純物質(zhì)的純度、雜質(zhì)含量的要求不同，它們之間差異很大。表9是中國(guó)電子級(jí)水的技術(shù)指標(biāo)，表10是美國(guó)ASTMD5127電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水的水質(zhì)要求，表11是TFT-LCD生產(chǎn)用純水水質(zhì)要求，表12是一個(gè)8″集成電路芯片制造用高純水水質(zhì)要求。

       近年來(lái)，對(duì)一些電子工廠的潔凈室（區(qū)）內(nèi)的噪聲級(jí)（空態(tài)）的檢測(cè)資料表明，大部分單向流潔凈室（區(qū)）內(nèi)的噪聲均可小于65dB（A）也有少數(shù)潔凈室（區(qū)），由于各種原因，實(shí)際檢測(cè)的噪聲超過(guò)65dB（A）。非單向流潔凈室（區(qū)）內(nèi)的噪聲大部分可小于60dB（A）。表16是部分電子工廠潔凈室（區(qū)）內(nèi)噪聲的檢測(cè)數(shù)據(jù)。